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选 50nm 还是 200nm?一张表看懂氮化硅窗口怎么挑

发布时间:2026-07-31 15:07:10

先记一个常识

膜越薄 → X 光越好穿 → 但越容易破;

膜越厚 → 越扛压差 → 但软 X 光被自己吸收掉一截。

所以选型就是在"透"和"牢"之间找平衡点

大白话对照表(行业通用经验值)

实验

推荐膜厚

开窗别超过

理由

软 X 射线(碳边、氮边吸收谱)

50–100nm

1×1mm(50nm)/1.5×1.5mm(100nm)

光软,膜厚了穿不过去

常规同步辐射透射成像(0.5–2keV)

100nm

1.5×1.5mm

透射和强度黄金中间值

硬 X 射线(>5keV)、荧光分析

200–500nm

2.5×2.5mm

硬光不怕厚,要膜扛得住压差

装液体/气体原位池

200nm 起

1.5×1.5mm

两边有压差,膜得结实

TEM 支撑膜(另类用法)

10–50nm

0.5×0.5mm

电子比 X 光更怕厚

耐压经验值(1 个大气压差下)

50nm 膜:窗 ≤1×1mm 才安全

100nm 膜:窗 ≤1.5×1.5mm

200nm 膜:窗 ≤2.5×2.5mm

 

外框尺寸怎么挑

5×5mm 最通用,适配大多数线站样品台卡槽;7.5 和 10mm 是给大视野断层扫描用的。硅框厚度 200μm 够用,381/525μm 是给要夹在金属 holder 里反复拆装的。



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