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同步辐射氮化硅薄膜窗口

原位芯片生产的氮化硅薄膜窗口是扫描透射软X射线显微成像技术(STXM)实验中十分理想的生物样品支持膜。利用同步辐射光源中的STXM技术可以对自然状态下的生物样品进行亚微米级的空间与化学分析;还可作为真空窗口,隔开高真空的软X射线部分与大气压,用于生物活细胞研究;也可作为同步辐射光束线中的污染阻挡层。

产品特点
  • X射线透过率高

    纳米厚度的氮化硅薄膜对X射线吸收率极低;

  • 表面超平整

    表面粗糙度<0.5nm,窗口大面积扫描时,可减少重新聚焦频率;

  • 表面超洁净

    细胞、纤维和颗粒等可以直接转移至膜上进行检测;

  • 化学稳定性好

    薄膜耐酸碱腐蚀;对各种培养液和化学清洗液都有抗性;

  • 机械强度高

    薄膜表面可进行微纳加工;

  • 产品质量保证

    光镜下逐片进行检验,严格把控薄膜质量;

  • 产品型号
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    氮化硅膜结构示意图和参数表
    • 外框项目
    • 参数
    • 外框项目
    • 参数
    • 材料
    • N/P型硅片
    • 电阻率
    • 1~10Ω*cm
    • 氮化硅膜参数
    • 参数
    • 氮化硅膜参数
    • 参数
    • 材料
    • LPCVD 氮化硅薄膜
    • 应力
    • <250MPa
    • 介电常数
    • 6-7
    • 介电强度
    • 10(106V/cm)
    • 电阻率
    • 1016Ω*cm
    • 粗糙度(Ra)
    • 0.28±5%nm
    • 折射率@630nm
    • 2.15-2.17
    • 粗糙度(Rms)
    • 0.45±5%nm
    客户案例
  • 作为生物、细胞载体

    作为生物、细胞载体

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  • ​含碳样品分析

    含碳样品分析(光阻剂,聚合物,食品,油品,燃料等)

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  • 表征实验

    胶体,气凝胶,有机材料和纳米颗粒的表征实验

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