同步辐射氮化硅薄膜窗口_同步辐射|X-Ray氮化硅薄膜窗口|电镜载网|氮化硅膜窗格

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同步辐射氮化硅薄膜窗口

原位芯片生产的氮化硅薄膜窗口是扫描透射软X射线显微成像技术（STXM）实验中十分理想的生物样品支持膜。利用同步辐射光源中的STXM技术可以对自然状态下的生物样品进行亚微米级的空间与化学分析；还可作为真空窗口，隔开高真空的软X射线部分与大气压，用于生物活细胞研究；也可作为同步辐射光束线中的污染阻挡层。

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产品特点

X射线透过率高

纳米厚度的氮化硅薄膜对X射线吸收率极低;

表面超平整

表面粗糙度＜0.5nm；窗口大面积扫描时；可减少重新聚焦频率；

表面超洁净

细胞、纤维和颗粒等可以直接转移至膜上进行检测；

化学稳定性佳

薄膜耐酸碱腐蚀；对培养液和化学清洗液抗性强；

机械强度高

薄膜表面可进行微纳加工；

产品质量保证

光镜下逐片检验，严格把控薄膜质量；

产品型号

产品编码
氮化硅膜厚(nm)
窗口尺寸(mm)
外框尺寸(mm)
衬底厚度(μm)
立即购买

TE025Z
10
0.25x0.25
5x5
200

TE050Z
10
0.5x0.5
5x5
200

TE025Y
20
0.25x0.25
5x5
200

TE050Y
20
0.5x0.5
5x5
200

TE025A
30
0.25x0.25
5x5
200

TE050A
30
0.5x0.5
5x5
200

TE100A
30
1x1
5x5
200

TE025B
50
0.25x0.25
5x5
200

TE050B
50
0.5x0.5
5x5
200

TE100B
50
1x1
5x5
200

TE150B
50
1.5x1.5
5x5
200

TE200B
50
2x2
5x5
200

TE010C
100
0.1x0.1
5x5
200

TE025C
100
0.25x0.25
5x5
200

TE050C
100
0.5x0.5
5x5
200

TE100C
100
1x1
5x5
200

TE150C
100
1.5x1.5
5x5
200

TE200C
100
2x2
5x5
200

TE75050C
100
0.5x0.5
7.5x7.5
200

TE75200C
100
2x2
7.5x7.5
200

TE100300C（5pcs）
100
3x3
10x10
200

TE100500C（5pcs）
100
5x5
10x10
200

TE010D
200
0.1x0.1
5x5
200

TE025D
200
0.25x0.25
5x5
200

TE050D
200
0.5x0.5
5x5
200

TE100D
200
1x1
5x5
200

TE150D
200
1.5x1.5
5x5
200

TE200D
200
2x2
5x5
200

TE250D
200
2.5x2.5
5x5
200

每盒包含10枚芯片（部分产品除外）

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氮化硅膜结构示意图和参数表

外框项目
参数
外框项目
参数

材料
N/P型硅片
电阻率
1~10Ω*cm

氮化硅膜参数
参数
氮化硅膜参数
参数

材料
LPCVD 氮化硅薄膜
应力
<250MPa

介电常数
6-7
介电强度
10（10⁶V/cm）

电阻率
10¹⁶Ω*cm
粗糙度（Ra)
0.28±5%nm

折射率@630nm
2.15-2.17
粗糙度(Rms)
0.45±5%nm

客户案例

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