透射电子显微镜（TEM）氮化硅（Si₃N₄）薄膜窗口是一种在纳米尺度表征领域至关重要的工具，其核心作用是为液体、气体或软物质样品提供稳定的TEM观察环境，同时保护样品免受电子束损伤和污染。以下是其具体应用场景及技术优势的详细分析：

近日中科院福建物构所温珍海教授、中国石油大学（华东）范壮军教授、黄毅超教授、上海交通大学高文旆副教授等人共同开发了一种Pt/Mo2N-NrGO电催化剂，在碱性电解水析氢反应中具有良好的反应性能。本研究中采用了原位芯片（YW MEMS (Suzhou) Co., Ltd）自主研发的氮化硅薄膜作为透射电子显微镜表征的载体，将催化剂粉末在无水乙醇中制备成ink，随后滴在氮化硅薄膜上进行TEM、STEM、EDS的表征。

氮化硅薄膜在半导体生产中主要作为功能性保护窗口，通过高致密性、化学稳定性和工艺兼容性，实现器件钝化、光刻掩膜、减反增透等功能；在分析中则作为观测与表征窗口，利用其超薄、低干扰特性，支持TEM、XPS、SIMS等高精度表征技术，保障样品原始状态和信号准确性。两者的核心均依赖于氮化硅“隔离-保护-传输”的多功能特性，是半导体制造与研发中不可或缺的关键材料。