中文 / EN
我们的产品
  • 同步辐射氮化硅薄膜窗口

    同步辐射扫描透射电子显微技术(STXM)中的生物样品支持膜

    了解更多
  • 硅片

    半导体硅片是制作芯片的核心材料,贯穿了芯片制作的全过程。我们提供多参数、性价比高、质量稳定的硅片。

    了解更多
  • TEM氮化硅薄膜窗口

    透射电子显微镜(TEM)样品杆的支持载网

    了解更多
  • 纳米孔氮化硅薄膜窗口

    应用于长序列、低成本、单分子高通量的DNA测序技术

    了解更多
  • 原位液体芯片

    实现纳米样品液体环境下实时动态观测

    了解更多
  • 产品优势
  • 超洁净

    成像清晰

    百级洁净环境制备

    100%检验

  • 高强度

    超强支撑

    压力耐受(PSI):60

    应力<250Mpa

  • 超平整

    表面粗糙度: <0.3nm

    厚度一致性: <5 %

     

  • 逐片检验

    成熟工艺

    逐片检验

    质量保证

  • 科研案例
  • 如何根据您的实验需求选择合适的氮化硅窗格?

    氮化硅(SiN)薄膜窗格是纳米技术、材料科学和生命科学等领域的关键基础元件。无论是用于透射电子显微镜(TEM)的样品支撑,还是作为微机电系统(MEMS)传感器的敏感膜,选择合适的窗格都至关重要。一个错误的选择可能导致实验失败、数据失真或设备损坏。 本文将从实验类型核心参数两个维度,为您提供一份清晰的选型指南。

    了解更多 >
  • 氮化硅薄膜窗口:微电子与MEMS领域的关键界面技术

    氮化硅薄膜窗口作为现代微纳制造中的核心功能性结构,在半导体、MEMS传感器、光学器件和生物芯片等领域发挥着不可替代的作用。这种以氮化硅为材料、厚度通常在纳米到微米级的悬空薄膜结构,因其独特的机械、光学和化学稳定性,成为连接微观世界与宏观应用的精密界面


    了解更多 >
  • 从长膜到留出窗:一张标准品是怎么"生出来"的 从长膜到留出窗:一张标准品是怎么"生出来"的(大白话版)第一步:给硅片"两面贴膜"拿一片 N 型硅(电阻 1–10Ω·cm),送进 LPCVD 炉子,800℃ 上下,在正反两面各长一层氮化硅,比如各 100nm。这层膜就是将来要用的"窗户"。(为什么两面都长?为了应力对称,硅片不翘。)第二步:正面"画窗户"在正面氮化硅上涂胶、光刻,把"以后要露出来的窗"用胶盖住,周围不要的地方用等离子刻掉氮化硅,露出硅。这一步相当于在天花板上先标好"天窗"位置。第三步:背面"挖洞"把片子翻
    了解更多 >

  • 版权所有 苏州原位芯片科技有限责任公司 © 苏ICP备15018093号-7  苏公安备 NO.32059002002439  网站地图