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我们的产品
  • 同步辐射氮化硅薄膜窗口

    同步辐射扫描透射电子显微技术(STXM)中的生物样品支持膜

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  • 硅片

    半导体硅片是制作芯片的核心材料,贯穿了芯片制作的全过程。我们提供多参数、性价比高、质量稳定的硅片。

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  • TEM氮化硅薄膜窗口

    透射电子显微镜(TEM)样品杆的支持载网

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  • 纳米孔氮化硅薄膜窗口

    应用于长序列、低成本、单分子高通量的DNA测序技术

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  • 原位液体芯片

    实现纳米样品液体环境下实时动态观测

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  • 产品优势
  • 超洁净

    成像清晰

    百级洁净环境制备

    100%检验

  • 高强度

    超强支撑

    压力耐受(PSI):60

    应力<250Mpa

  • 超平整

    表面粗糙度: <0.3nm

    厚度一致性: <5 %

     

  • 逐片检验

    成熟工艺

    逐片检验

    质量保证

  • 科研案例
  • 电镜载网:透射电镜样品支撑的关键工具

    在透射电子显微镜(TEM)分析中,样品需置于高真空环境中并承受高强度电子束轰击。由于绝大多数样品(如生物大分子、纳米材料、薄膜截面等)无法直接稳定存在于真空腔室中,电镜载网(EM Grid作为支撑样品的核心工具,承担了固定样品、维持结构稳定性及确保电子束穿透的关键作用。本文将系统介绍电镜载网的常见类型、材料、结构及其典型应用场景。


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  • 氮化硅薄膜:光学领域的“多面手”材料

    在光学技术高速发展的今天,从高效太阳能电池到精密光子芯片,从日常光学镜头到前沿量子通信,材料的性能往往决定着器件的上限。其中,氮化硅(SiN)薄膜凭借其独特的光学特性与可靠的物理稳定性,已成为光学领域不可或缺的关键材料——它既是光的调控师,也是器件的守护者,更是集成光路的基石。本文将带您了解这位光学领域的多面手是如何在不同场景中发挥核心作用的。

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  • 同步辐射氮化硅薄膜窗口是怎么被制造出来的?

    氮化硅薄膜因其优异的机械强度、化学惰性及X射线透射性能,成为同步辐射、电子显微镜等高端设备的理想窗口材料。相比其他材料(如碳化硅或聚合物),氮化硅在真空环境下的稳定性更高,且能耐受高能辐射的长期照射。通过以上步骤,氮化硅薄膜窗口得以在同步辐射装置中实现高效、可靠的X射线透射,为科学研究提供关键技术支持。实际制造中需根据具体应用需求调整工艺参数,并可能结合先进技术(如原子层沉积ALD)进一步提升性能。


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