氮化硅薄膜窗口作为现代微纳制造中的核心功能性结构，在半导体、MEMS传感器、光学器件和生物芯片等领域发挥着不可替代的作用。这种以氮化硅为材料、厚度通常在纳米到微米级的悬空薄膜结构，因其独特的机械、光学和化学稳定性，成为连接微观世界与宏观应用的精密界面。
成像清晰
百级洁净环境制备
100%检验
超强支撑
压力耐受（PSI）：60
应力＜250Mpa
表面粗糙度: <0.3nm
厚度一致性: <5 %
成熟工艺
逐片检验
质量保证
氮化硅薄膜窗口作为现代微纳制造中的核心功能性结构，在半导体、MEMS传感器、光学器件和生物芯片等领域发挥着不可替代的作用。这种以氮化硅为材料、厚度通常在纳米到微米级的悬空薄膜结构，因其独特的机械、光学和化学稳定性，成为连接微观世界与宏观应用的精密界面。
氮化硅薄膜窗口作为现代微纳制造中的核心功能性结构，在半导体、MEMS传感器、光学器件和生物芯片等领域发挥着不可替代的作用。这种以氮化硅为材料、厚度通常在纳米到微米级的悬空薄膜结构，因其独特的机械、光学和化学稳定性，成为连接微观世界与宏观应用的精密界面。
在半导体、光学、MEMS（微机电系统）以及各类新兴技术飞速发展的今天，氮化硅薄膜（Si₃N₄）已成为工程师与科研人员的重要选材。但相比二氧化硅、石英或聚合物等材料，它为何被广泛采用？芯片制造商、光学仪器设计师和传感器开发者纷纷选择氮化硅的根本原因是什么？
